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第1623章 突破阿贝极限（第1页）

“常院士，这是……？”栾文杰环顾四周，有些不解。

相比旁边关乎国家半导体命脉的光刻机测试，这里的设备显得过于“普通”了。

“一项纯光学的……原理性验证实验。”常浩南言简意赅，目光落在栗亚波。。。

“那东西确实有点意思。”张汝宁笑了笑，眼神中透出几分神秘，“不过它现在还不能动，要等你走了以后我们才能继续调试。”

栾文杰点了点头，没有多问。

两人穿过连接通道，来到另一间实验室。这里的空间比刚才的光学测试室小了不少，也没有那么多设备，但中央一个巨大的金属装置却显得格外醒目。

“这是什么？”栾文杰忍不住问道。

“这是我们最新的原型机。”张汝宁走近几步，语气略带自豪，“代号‘光刃’，是我们在极端工艺条件下尝试突破物理极限的一次大胆尝试。”

常浩南也走了过来，目光在那台机器上扫过：“看起来……不太像传统意义上的光刻机？”

“没错。”张汝宁点头，“它的核心是一套基于极紫外波段（EUV）的干涉成像系统，但我们并没有采用传统的反射镜组，而是利用了量子点结构和超材料的复合设计，试图在不依赖高精度同步辐射光源的前提下，实现亚10nm级别的特征尺寸曝光能力。”

栾文杰皱眉思索了一会儿，缓缓开口：“你们的意思是，这是一台理论上可以绕开ASML现有技术封锁的‘另类’光刻机？”

“准确来说，是一个探索性平台。”常浩南接过话头，“目前我们还在验证阶段，只能完成单层线条的曝光，无法进行大规模量产。但它证明了一条新路径的存在??如果我们能在这个基础上进一步优化材料、算法和驱动方式，未来完全有可能构建出一套独立于现有国际供应链的技术体系。”

“也就是说，这是一把钥匙。”栾文杰低声说道。

“没错。”张汝宁轻轻拍了拍那台机器的外壳，“虽然它现在还不够成熟，但它的存在本身，就已经打破了某些人对我们技术路径的垄断想象。”

气氛一时变得有些凝重。

片刻后，栾文杰突然笑了：“我得说，你们这群人真是胆子够大。”

“科研嘛，总得有人往前冲。”常浩南耸肩，“再说，我们也不是孤军奋战，背后有整个研究所的支持，还有无数工程师在默默努力。”

“这一点我深信不疑。”栾文杰点头，“今天的所见所闻，已经足够让我回去之后为你们争取更多资源和支持。”

张汝宁闻言，眼中闪过一丝欣喜，但仍保持克制：“谢谢您愿意来看一看，其实我们还有很多没展示出来的部分，比如量子点阵列的自组装工艺、超材料折射率调控模块、还有我们自己开发的光刻模拟软件。”

“这些我都会写进报告。”栾文杰认真地说，“尤其是你们对ArF-1800系统的评估，以及对未来制程极限的判断，都将成为决策层制定战略的重要依据。”

他顿了顿，语气变得更加严肃：“我知道你们承受着巨大的压力，但请相信，国家也在全力支持你们。这条路不好走，但只要坚持下去，终有一天会看到曙光。”

“我们会的。”常浩南郑重地点头。

三人站在“光刃”前，沉默了几秒。

随后，栾文杰转身准备离开。

张汝宁送他到门口，忽然想起什么似的，低声说道：“对了，关于那份B2碎片的事……我们最近在分析时发现了一些奇怪的数据波动，似乎和某种未知的材料结构有关。”

栾文杰脚步一顿：“哦？”

“我们还没完全破解，但初步推测，那可能是一种新型的二维晶体结构，具备极高的电子迁移率和热稳定性。”张汝宁压低声音，“如果这个推测成立，或许可以为我们未来的芯片架构提供新的思路。”

“听起来很有意思。”栾文杰微微一笑，“回头我会安排专人跟进这件事，如果你们需要外部资源，尽管提。”